半導體等離子體清洗機在晶圓清洗中的應用等離子清洗機不能去除碳和其他非揮發性金屬或金屬氧化物雜質。等離子體清洗機常用于光刻膠的去除過程中。在等離子體反應體系中引入少量氧氣。在強電場作用下，溶劑膠附著力促進劑的作用氧氣產生等離子體，使光刻膠迅速氧化成揮發性氣體狀態，抽走物質。等離子清洗機在除膠過程中具有操作方便、效率高的優點；率高，表面清潔，無劃痕，有利于保證產品質量等優點，且不使用酸、堿和有機溶劑。

可提高整個工藝線的加工效率；二是等離子清洗機使用戶遠離有害溶劑對人體的危害，溶劑膠附著力促進劑的作用同時避免了濕式清洗中清洗對象易被沖洗的問題；三是避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后就不會產生有害污染物，所以這種清洗方法屬于環保綠色清洗方法。這在世界高度關注環境保護的當下，越來越顯示出它的重要性；4.等離子清洗機利用無線電波范圍內的高頻產生等離子，不同于激光等直射光。

2、PCB抄板之半水清洗技術半水清洗主要采用有機溶劑和去離子水，附著力促進劑2776再加上一定量的活性劑、添加劑所組成的清洗劑。該類清洗介于溶劑清洗和水清洗之間。這些清洗劑都屬于有機溶劑，屬于可燃性溶劑，閃點比較高，毒性比較低，使用上比較安全，但是須用水進行漂洗，然后進行烘干。有些清洗劑中添加5%~20%的水和少量表面活性劑，既降低了可燃性，又可使漂洗更為容易。

例如，附著力促進劑2776該芯片正常工作電壓為3.13V ~ 3.47V，穩壓芯片標稱輸出為3.3V。整機安裝在電路板上，穩壓芯片輸出為3.36V。那么，允許電壓范圍為3.47-3.36=0.11V=110毫伏。穩壓板& plusMN;1%輸出精度，即& plusMN; * 1% = 3.363 & plusMN; 33.6 mv。電力系統噪聲裕度為110-33.6=76.4毫伏。三、低溫等離子整流器功率噪聲的產生。

溶劑膠附著力促進劑的作用

由于氮分子的NN鍵的斷裂能高達9.76 eV，因此在脈沖電暈等離子體中形成N原子的可能性相對較小，CH4-N2等離子體系統的活性粒子會被激發通過自由分子和甲基。團體。基于主。等離子能量密度為629 kJ/mol條件下的O2量烷烴等離子體轉化反應的影響：甲烷的轉化率隨著O2添加量的增加而增加，但C2烴（主要是C2H2）的收率逐漸降低。

表 3-3 各種催化劑在等離子體作用下的催化活性 201 催化轉化率/% 選擇性/% 收率/% 比值/ MOLC2H6CO2C2H4C2H2C2H4 和 C2H2C2H4 / C2H2H2 / CO 無催化劑 33.822.712.425.412.70.482.3410LA2O3 / Y -AL2OY37.518.52 .832.019.80.652.7410CEO2 / Y-AL2O342.420.620.431.321.80.652.640.1PD / Y-AL2O330.024.646.76.315.97.401.46 注：反應條件為催化劑用量0.7ML，放電功率20W（峰值電壓28KV：頻率數。

等離子體清洗機主要是通過等離子體作用于固體材料表面，然后在材料表面引起復雜的物理化學反應，與固體材料表面的有機分子碰撞形成微小的揮發性物質，從表面去除，最終達到表面清洗的效果。等離子清洗機由于其自身的特點，在許多產品的生產中都有用武之地。氧氣是等離子體清洗機中常用的處理氣體。我們會首先考慮要去除的污染物的成分。在清洗等離子清洗機的過程中，需要匹配不同的氣體，才能達到等離子清洗機的最佳清洗效果。

其過程反應如下：H2*+氧化物→H2O+單質或其他式（5）表明，激發態的氫氣與氧化物發生化學反應，將氧化物還原為單質和水蒸氣；氮氣等離子體經過物理碰撞，與H2清洗起到協同的作用。通過兩種氣體的清洗能有效地將待清洗物表面的氧化物去除。

附著力促進劑2776

低溫等離子體技術采用三種方法解決環境工程廢水采用低溫等離子體技術處理環境工程廢水，溶劑膠附著力促進劑的作用在高能電子輻射、臭氧化、紫外光分解等共同作用下，可達到良好的處理效果。高能電子作用:低溫等離子體技術在廢水處理過程中產生大量高能電子。通過與廢水中的原子和分子碰撞，能量轉化為基質分子的內能，廢水通過激發、分解、電離等過程被激活。這種新化合物是通過分解廢水中的分子鍵，并與自由氧和臭氧等活性因子發生反應而形成的。