等離子清洗機技術在柔性材料上提供出色的表面活化效果,引線接合之前的等離子體清潔可提供更清潔的接合表面,在柔性材料上提供表面活化,去除工藝均勻性. 引線接合之前的采用等離子清洗機可提供更清潔的接合表面，柔性基材磁控濺射附著力從而減少設備故障，等離子體清洗機處理是微電子和半導體封裝行業的重要過程。在引線接合之前引入適當的等離子體清洗機的處理工藝將始終提供更清潔的表面以結合。
2. 用于傳輸氣體和能量的柔性導管。 3、等離子噴頭：由中間電極、外電極和隔離區組成。 ● 高壓高頻發生器將恒壓轉換為高壓（10KV以上）。這是形成高壓放電所必需的。 ● 高壓冷卻工藝氣體通過柔性管道輸送到排放區。 ● 氣流的活躍元素（I+、E-、R*）可以在放電區域產生電弧。 ● 為實現通過特殊噴嘴口時的處理效果，柔性基材磁控濺射附著力將活性氣流集中在樣品表面。
具體看，柔性基材磁控濺射附著力DI一梯隊為日本旗勝和中國鵬鼎控股；第二梯隊企業有日本住友、藤倉，三星電機，中國東山精密和中國臺郡；第三梯隊企業有比艾奇、嘉聯益等；第四梯隊為其他中小企業。與國外相比，我國柔性電路板行業集中度仍然較低，產業化水平存有較大上升空間。如今，國內消費電子市場的發展十分迅速，疊加電子產品輕量化和折疊化的發展趨勢，我國柔性電路板下游應用領域將不斷拓寬，在未來幾年內行業有望得到進一步發展。
等離子清洗機是由真空發生系統、電子控制系統、等離子發生器、真空系統、機械等部件組成。可根據用戶需要定制真空系統及真空系統。使用數控技術簡單，磁控濺射增加附著力自動化程度高。使用高精度的控制裝置，時間精確控制，正確的等離子清洗不會對表面造成損傷，從而保證表面質量。因為清洗是在真空條件下進行的，所以不會對環境造成污染，對表面沒有二次污染。。
柔性基材磁控濺射附著力
等離子體技術能夠合理有效地去除精密構件表面的雜質顆粒，主要得益于等離子體的寬光譜輻照因子和沖擊波因子。當基體和顆粒的熱膨脹程度不同時，脈沖能量合理有效地傳遞給基體和表面雜質顆粒，導致兩顆粒分離。等離子體處理的沖擊將進一步克服顆粒物對基面的吸附能力，從而實現雜質顆粒物的去除。
O2plasma處理對于光刻膠而言還具有去除殘余光刻膠等作用，可以同時將微結構內部曝光顯影不完全而殘留的光刻膠除掉。O2 plasma處理等離子是指氣體中的一部分原子以及原子團的電子被搶奪然后發生電離出現正負離子與氣體中本來的原子團，分子，原子形成的離子化氣體狀的物質，對外部系統而言顯示為電中性，一般被看做是固體、氣體和液體以外的第四種形態的物質。該種物質的出現對于各個領域的發展都帶來了新的機會。
第三個反應方程式表明氧分子在高能激發態的自由電子的作用下轉變為激發態。第四和第五個方程表明被激發的氧分子進一步轉化。在第四個方程中，缺氧食物和大腦發出光能（紫外線）并恢復正常。在第五個反應中，被激發的氧分子分解成兩個氧自由基。第六個反應式表示氧分子在激發的自由電子的作用下分解成氧原子自由基和氧原子陽離子的過程。當這些反應連續發生時，會形成氧等離子體并形成其他氣體的等離子體。
真空等離子體設備技術在半導體工業中的應用已經被許多工業產品制造商所熟知，相信在電子工業中也會很受歡迎和推崇，即真空等離子體設備的應用。目前，國內很多半導體廠商都在使用這項技術。相信在品質要求越來越高的未來，等離子體設備技術會越來越受到業內人士的青睞和信賴。。
磁控濺射增加附著力
