干法蝕刻加工設備包括反應室、電源、真空等部件。工件被送到反應室，電泳附著力不好什么原因氣體被引入等離子體并進行交換。等離子體蝕刻工藝本質上是一種主動等離子體工藝。最近，反應室中出現了架子的形狀。這允許用戶靈活移動以配置適當的等離子體蝕刻方法（反應等離子體（RIE）、下游等離子體（DOWNSTREAM）、直接等離子體（DIRECTIONPLASMA））。
等離子等離子清洗機無需進一步處理即可立即投入下一步工作；2.等離子清洗過程不需要添加任何化學物質，電泳附著力多少牛不會產生有害污染物，是一種環保節能的清洗機方法；3.等離子清洗工藝，可不擔心貨物表面凹凸不平，離子束可充分清洗；4.而且清洗過程很短，是提高生產效率的有效方法；5.等離子等離子清洗機利用離子束進入該線路分解有機污染物，生產現場可一直保持清潔。
在現有的每一個循環系統中，電泳附著力多少牛電子設備都可以在腔室中左右加速并撞擊腔室的頂壁和芯片托盤。此外，高質量的電離響應 RIERF 靜電場是相對靜態的。電子設備被腔室的墻壁消化吸收，因此它們只被送到路上，不會改變系統中的電子設備。眾所周知，堆疊在芯片盤片上的電子設備會在盤片上儲存正電荷，用于直流保護。這種類型的正電荷在盤片中積累，通常會導致數百伏的大負工作電壓。
2.等離子刻蝕原理及應用：等離子蝕刻是通過化學或物理作用，電泳附著力多少牛或物理和化學的結合來實現的。含有離子、電子、自由基等活性物質等離子體的反應室內氣體的輝光放電，通過擴散吸附在介質表面，與表面原子發生化學反應，形成揮發性物質。...在一定壓力下，高能離子還會物理沖擊和腐蝕介質表面，去除再沉積反應產物和聚合物。介電層的蝕刻是通過物理化學和物理化學的共同作用完成的。
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等離子體和固體表面之間的這種反應可以分為物理反應（離子沖擊）和化學反應。物理反應機理 活性顆粒與待清潔表面碰撞，污染物從表面被清除并被真空泵吸走。化學反應機理是O-活性粒子將有機物氧化成水，除去（去除）二氧化碳分子和表面，并被真空泵抽吸。使用 O2 作為清洗氣體的 Ag72Cu28 焊料的等離子清洗具有出色的可操作性。
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