在氯氣中加入BCl3和He對氮化鈦剖面形狀的影響可以看出,涂膜附著力畫圈法雖然添加He可以帶來更高的光阻選擇比,但氮化鈦蝕刻表面明顯比添加BCl3.3傾斜。通常,在等離子體清洗機和其他干式蝕刻完成后,引入一個酸性或堿性濕式清洗步驟,以完全去除等離子體蝕刻在晶圓上形成的副產物,避免二次反應。

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冷等離子體技術可以去除環境中的各種污染物。經濟實用,涂膜附著力畫圈法簡單易行,無二次污染。而作為另一個優勢,將這種技術用于污水處理是當前研究的熱點之一。黃青課題組長期致力于利用低溫等離子體技術解決水污染問題的基礎研究,為該技術在環境領域的應用和推廣做出貢獻。。使用常壓等離子清洗機清潔手機的玻璃面板。傳統的清洗方法復雜、耗時、勞動強度大,而且會先用洗滌劑擦洗,然后用酸性、堿性和有機溶劑進行超聲波清洗,從而造成污染。

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堿性陶化后涂膜附著力差

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