還可選擇性地清洗材料的整體、局部或復雜結構；等離子體清洗所要操作的真空值約為Pa,這種清洗條件非常容易達到。因此此類裝置的機器設備生產成本不高，附著力3Mpa是是幾級且清洗工藝無需使用極其昂貴的有機溶液，導致整體生產成本低于傳統濕法清洗工藝；在順利完成清洗去污的同時，還可以提高材料本身的表層性能。如改善表面層的潤濕性，提高薄膜的附著力，這在很多應用中都是非常重要的。

深圳市誠豐智造有限公司自主研發生產的等離子清洗機，附著力3MPa不僅能增強試驗品的附著力、相容性、滲透性，還能為試驗品除（毒）（殺）菌。目前，等離子體清潔器已廣泛應用于光學、光電子、電子學、材料科學、高分子、生物醫學、微流體等領域。國產系列等離子清洗機是借鑒價格昂貴、推廣難度大的先進技術，結合國內用戶需求開發的新型系列等離子清洗機?？傮w而言，我國配置的等離子清洗機已經能夠滿足部分工件的加工標準。

等離子發生器表面處理系統可以顯著提高這些表面層的附著力和焊接強度，附著力3MPa目前用于清洗和蝕刻液晶顯示器、LED、LC、PCB、SMT、BGA、引線框架和平板顯示器。等離子清洗IC可以顯著提高鍵合線的強度，降低電路故障的可能性。殘留的光刻膠、樹脂、溶液殘留物和其他有機污染物暴露在等離子體中，可以在短時間內去除。 PCB 制造商用等離子蝕刻系統，用于去除污染和腐蝕以及去除鉆孔中的絕緣層。

等離子體粒子將材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉，附著力3Mpa是是幾級有利于清洗蝕刻反應。在等離子作用下，難粘塑料表面出現部分活性原子、自由基和不飽和鍵，這些活性基團與等離子體中的活性粒子接觸會反應生成新的活性基團。但是，帶有活性基團的材料會受到氧的作用或分子鏈段運動的影響，使表面活性基團消失。使用等離子清洗機處理的物體，其或大或小，形狀簡單或者復雜，部件或紡織品都可以進行處理。

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真空等離子清洗設備是一種高端清洗設備，可以達到其他清洗設備無法達到的清洗效果。經過真空等離子清洗后，產品的表面附著力大大提高，便于后續的粘合。印刷、噴涂等工藝。 , 確保質量可靠性和耐用性。。在日常使用真空等離子清洗設備的過程中，在處理一定量的產品和材料后，真空等離子清洗機的內壁和電極板上會殘留污垢，但這一次是需要清洗的。等離子處理設備 真空室維護保養。

等離子清洗機的效果可分為改變潤濕性。某些有機化合物的附著力對顏料、油墨、膠粘劑的附著力、閃絡電壓和表面漏電流有很大影響。增強粘度。某些聚合物和金屬經材料（活化）氣體處理后，可提高材料與膠粘劑的結合強度。致能增加邊界聚合物表層附著力；或在材料處理過程中引入偶極子，增強聚合物表面層的結合強度；還可以通過材料清洗去除聚合物表面的污垢，改善粘接條件。電暈處理也有同樣的效果。加強聚合物之間的粘合。

雙面板雙面板是一種兩面鍍銅的印刷電路板，包括上(Top)和下(Bottom)。兩邊可以布線焊接，中間是一層保溫層。它是一種常用的印刷電路板。兩邊都可以布線，大大降低了布線的難度，因此被廣泛使用。多層印制板的生產方法通常是由內層圖形第一,然后由單一或雙面襯底通過印刷蝕刻方法,并納入指定的層,然后加熱,加壓和粘鉆和double-panel鍍通孔的方法是相同的。。

等離子處理機廣泛應用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場合。等離子清洗機用于去除晶圓表面的particle(顆粒），徹底去除光刻膠和其他有機物、活化及粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤性等 等離子清洗機的應用包括預處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點、消除靜電、介電質刻蝕、有機污染去除、晶圓減壓等。

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一般排氣時間大約需要2min。（2） 向真空室引入等離子清洗用的氣體，附著力3Mpa是是幾級并使其壓力保持在10pa以內。根據清洗材質的不用，可分別選用氧氣、氫氣、或氮氣等氣體。（3） 在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發生離子化和產生等離子體。讓在真空室產生的等離子體完全籠罩在被處理工件，開始清洗作業。一般清洗處理持續幾十秒到幾分鐘。