由于體積上的缺點，等離子體活化水土壤鹽分研究人員開發了一種低溫等離子體發生器。如果氣壓低于 10 PA，則不會發生異常輝光放電。等離子體可以通過從高頻激發的微波或熱射線發射的高能電子沖擊電離產生。這些低壓等離子體充滿了整個處理空間，含有大量的活性原子并提高了氮化效率。在射頻低溫等離子發生器滲氮中，低溫等離子發生器的產生和襯底偏壓是分開控制的，因此離子能量轉換和到襯底表面的通量可以分開控制。

由于工作氣壓相對較低，香港城市大學等離子體實驗室耗氣量會相應減少（減少）。在自由基氮化過程中，低能量變換直流輝光放電產生可用于氮化的NH自由基。與氣體氮化工藝類似，在整個工藝過程中都需要外部電源來加熱工件。工業不僅可以精確控制表面拓撲，還可以選擇是否形成復合層。您還可以在不改變表面結構屬性的情況下控制復合層的厚度和擴散層的深度。冷等離子發生器。如果金屬表面有狹縫或孔洞，則可以通過此工藝輕松實現氮化。

傳統低溫等離子發生器的氮化工藝采用直流或脈沖異常輝光放電。該工藝對于低合金鋼和工具鋼的滲氮是可以接受的，等離子體活化水土壤鹽分但不適用于不銹鋼，尤其是具有奧氏體結構的鋼。由于高溫氮化時CRN析出，金屬表面堅硬耐磨，但有易腐蝕的缺點。低溫低壓放電技術成功解決了這一問題，該工藝產生的改質層中含有稱為擴展奧氏體的富氮層。

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行業協會（CPCA）是CPCA行業標準制定單位之一，在行業技術和產品質量方面走在全國前列。主要子公司有惠州中晶電子科技有限公司、珠海源盛電子科技有限公司、珠海中晶電子電路有限公司、珠海中晶半導體科技有限公司、香港中晶電子。科技中晶電子有限公司總部位于惠州仲愷高新區，目前在惠州仲愷PCB產業園擁有3個生產基地、惠城3個生產基地、珠海源盛電子生產基地。

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等離子聚乙烯薄膜沉積在硅橡膠表面后，硅橡膠對氧氣的滲透系數顯著降低。反滲透膜由含氮單體制備。高達 98% 的鹽分。聚合物微囊一般用于體內緩釋藥物，也可采用等離子聚合技術。微膠囊表面形成反滲透膜層。結果表明，等離子聚合物薄膜對檢測元件的應用、放電功率等因素對薄膜電阻有很大影響。用各種乙烯基單體和Ar輝光放電處理的織物的疏水性和染色性能在很短的時間內得到改善。 2.3 表面接枝是通過等離子體接枝聚合材料表面。

用于碳耐磨涂層金屬和塑料（如金剛石）的最新化學氣相沉積技術是將含碳氣體引入等離子體。該涂層耐化學品，無針孔，不透水，可防止基材被多種化學品侵蝕。你也可以應用它。氧氣用于玻璃刮水器后顯著降低硅橡膠的滲透系數，在電腦磁盤上涂上低摩擦涂層以減少磁頭碰撞，在硅橡膠表面沉積等離子聚乙烯薄膜。滲透膜可以阻擋高達 98% 的鹽分。體內緩釋藥物一般采用高分子微膠囊，也可采用等離子聚合技術在表面形成反滲透膜層。

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輝光放電是化學等離子體實驗的重要工具，香港城市大學等離子體實驗室但由于氣體壓力低的限制，工業應用的連續生產困難，應用成本高，不能廣泛用于工業生產。目前的應用范圍僅限于實驗室、照明產品和半導體行業。

ROTH 等人使用離子阱原理描述了 APGD。也就是說，香港城市大學等離子體實驗室如果使用的工作電壓頻率高到足以在半個周期內捕獲板之間的正離子，但不足以捕獲電子，它們將保留。氣隙空間電荷會影響循環后期的放電，顯著降低所需的放電場強并導致產生均勻的 APGD。他們在實驗室中使用氣體放電等離子體實驗室設備實現了 AR、HE 和空氣的“APGD”。