例如惰性氣體Ar2、N2等產生的攪拌等離子體主要用于物理清洗，等離子體技術二氧化碳轉化書通過炮擊效應對材料表面進行清洗，而反應氣體O2、H2等產生的等離子體則作用于牙齒。主要用于化學清洗。清潔是活性自由基和污染物（主要是碳氫化合物）之間的化學反應，產生從材料表面去除的小分子，如一氧化碳、二氧化碳和水。https://www.jinlaiplasma.com/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png(3)等離子清洗的種類對清洗效果有一定的影響。等離子物理清洗可以增加材料的表面粗糙度，有助于提高材料表面的附著力。
在中頻等離子設備上面就是使用的此種電源控制器。典型的等離子體化學清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產生的氧自由基很活潑，二氧化碳等離子體容易與碳氫化合物發生反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發物，從而去除表面的污染物。使用與集成電路技術兼容的簡單物理方法，等離子體技術二氧化碳轉化書使熱生長的二氧化硅表面疏水或向附近表面引入電荷，以利于駐極體電荷穩定性。改進和集成麥克風。基于過程。https://www.jinlaiplasma.com/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.pngPlasmahttp://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.pngCleanerhttp://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png用等離子體對SiO2/Si薄膜樣品進行物理處理，可以有效提高駐極體電荷的儲存穩定性。不同類型的等離子體具有非常不同的效果。相同的等離子體處理時間不同，電荷存儲性能的提升程度也不同。這是因為等離子清洗設備的后刻蝕工藝需要干凈的硅界面進行濕法刻蝕，二氧化碳等離子體形成σ型硅溝槽。這種深度差異是由將http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.pngCl2http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png引入蝕刻氣體引起的。與其他氣體（如HBr）相比，氯和硅形成的副產物具有更好的氣化性能，有效減少蝕刻副產物的沉積，提高蝕刻負荷，可以達到效果。實驗表明，添加Cl2對改善深度差非常有效。通過引入http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.pngCl，由于這種模式導致的深度差異可以提高http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png60%。等離子體技術二氧化碳轉化書可以提高整個工藝線的加工效率；http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png2.等離子清洗可以讓用戶避免使用對人體有害的溶劑，同時避免被清洗物易濕清洗的問題；http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png3、本清洗方式為環保綠色清洗方式，避免使用三氯乙烯烷烴等ODS有害溶劑，防止清洗后有害污染物的產生。隨著世界對環境保護的極大興趣，這一點變得越來越重要。第四，等離子清洗機使用無線電范圍內的高頻產生的等離子不同于激光等直射光。http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.pnghttp://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png等離子技術是一新興的領域，該領域結合等離子物理、等離子化學和氣固相界面的化學反應，此為典型的高科技產業，需跨多種領域，包括化工、材料和電機，因此將極具挑戰性，也充滿機會，由于半導體和光電材料在未來得快速成長，此方面應用需求將越來越大。近期，他們以抗(菌)藥品諾氟沙星為例進行了深入研究，發現利用等離子體產生的臭氧可以對諾氟沙星產生脫氟反應，導致諾氟沙星中的羧基團和喹諾酮基團斷裂。實驗表明可以實現對諾氟沙星的高(效)快速降解，同時該技術對降解土霉素、四環素、金霉素、強(力)霉素等抗(生)素均有效(果)。在等離子體與材料表面相互作用的過程中，等離子體的基本作用是：http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png1）與中性氣體分子相互作用碰撞高能電子可以破壞化學鏈，激發和激活工作氣體，引發化學反應。http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png2)等離子粒子被加速到基板并與基板表面碰撞。另一方面，材料表面的原子或基團通過分解、濺射、蝕刻等方式與材料表面分離。http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png..另一方面，通過注入、基團轉化和聚合，可以通過接枝將新的原子或分子引入材料表面，從而導致材料表面的組成、結構和性能發生變化。二氧化碳等離子體等離子發生器傳輸能量時，等離子體技術二氧化碳轉化書如果反應室和電極的阻抗（以下簡稱負載）不等于傳輸線的特性阻抗，則在傳輸過程中會發生反射，部分能量是全部能量.http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli11.png不被真空等離子裝置的負載吸收，而是因加熱而損失。這直接影響等離子體表面處理的有效性。在高頻放電電路中，傳統的方法是在高頻電源、等離子體腔和電極之間建立一個阻抗匹配網絡，以保證放電區域的功耗并保護振蕩器。
