四、 plasma設備氧化物 半導體圓片暴露在含氧氣及水的環境下表面會形成自然氧化層。這層氧化薄膜不但會妨礙半導體制造的許多工步,還包含了某些金屬雜質,在一定條件下,它們會轉移到圓片中形成電學缺陷。這層氧化薄膜的去除常采用稀氫氟酸浸泡完成。。普通plasma設備適用于精密電子、半導體、pcb、高分子材料等高端產品的零部件，金屬件噴漆附著力要求標準這些（高）級材料如果清潔不當，容易導致產品損壞。

傳統的電子元器件采用的是濕法清洗，噴漆附著力解決方案而在電路板上有些元器件，如晶振之類的，都有金屬外殼，在清洗過后，很難將元件里面的水分烘干，用酒精、天那水等人工進行清洗，氣味大、清洗效率低，浪費人工成本。集成電路或IC芯片是當今電子產品的復雜基石。現代IC芯片包括印刷在晶片上的集成電路，并且附接到“封裝”，該“封裝”包含到印刷電路板的電連接，IC芯片焊接在印刷電路板上。

研究表明，金屬件噴漆附著力要求標準使用激發頻率為13.56 MHZ的氫氬混合氣體可有效去除引線框架金屬層的污染物，可通過氫等離子體去除氧化物，通過氬離子化氫等離子體。為了比較清洗效果，JHHSIEH 在 175°C 下氧化銅引線框架，并使用兩種氣體 AR 和 AR/H2 (1:4) 等離子分別清洗 2.5 和 12 分鐘。引線框架的表面被氧化。殘留含量極低，含氧量為0.1AT%。

隨著微電子封裝向小型化方向發展，金屬件噴漆附著力要求標準表面清洗的要求越來越高，在線式等離子清洗的諸多優點， 將使它成為表面清洗工藝很好的選擇方案之一，作為很有發展潛力的清洗方式，將被應用于越來越多的領域。同時，在線式等離子清洗很有利于環境保護，清洗后不會產生有害污染物，這在全球高度關注環保意識的情況下越發顯示出它的重要性。

金屬件噴漆附著力要求標準

近年來，LED廣泛應用于大面積圖形顯示、狀態顯示、標志燈、信號顯示、汽車組合尾燈、車內照明等，被譽為21世紀的新型光源。簡單、快速、無污染的解決方案一直困擾著人們。等離子清洗，一種不污染環境的新型清洗方式，為人們解決了這個問題。

產品選型是按照技術上先進、經濟上合理、生產上適用等目標根據應用需求及產品屬性依據選型原則確定產品優化配套方案的行為過程。然而，由于選型設計往往關聯著需求方和供給方兩個不同的企業，他們甚至來自于不同的工業領域，因此來自需求方的應用需求同來自供給方的產品屬性之間總是存在著巨大的“語義鴻溝”，這種“語義鴻溝”很大程度上影響了選型的準確性。

等離子清洗機常見的主機電源是13.56khz頻率傳輸主機電源，可產生離子密度高、能量軟、溫度低，通常功率1~ 2kW，大功率5kW，小功率幾百kW，多功率40kW，小功率幾百kW，多功率40KHz，中頻電源40KHz，中頻等離子清洗機主機電源，高功率為5kw，小功率為幾百KHz，多功率為40中頻功率為40KHz，軟能、低溫，通常功率為1~ 2kW，高功率為5kW，小功率為幾百kw，小功率為幾百KHz，大多為40KHz，真空等離子吸塵器中頻功率與普通室內溫度的吸塵器放電是相似的，當然，如果你整天使用真空等離子吸塵器，你仍然需要添加一個水冷卻系統。

6.大幅提高表面的潤濕性能，形成活性的表面7.不需要消耗其他能源（如煤氣），啟動僅需220V電源和壓縮空氣。公司介紹科技有限公司是專業從事真空等離子清洗機、大氣等離子清洗機、多軸等離子表面處理機的研發、生產、銷售于一體的公司。

金屬件噴漆附著力要求標準

下列物質以等離子體狀態存在:高速運動的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、自由基;電離的原子和分子;未反應的分子、原子等，金屬件噴漆附著力要求標準但物質整體上保持電中性。

真空等離子設備其主要過程包括︰首先將需要清洗的工件送入真空室固定，噴漆附著力解決方案啟動真空泵等裝置開始抽真空排氣到10Pa左右的真空度;接著向真空室引入等離子清洗用的氣體（根據清洗材質的差異，選用的氣體也差異，如氧氣、氫氣、氬氣、氮氣等），并將壓力保持在 Pa左右;在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被穿透，并經過輝光放電使其發生離子化，形成等離子體;在真空室內形成的等離子體完全覆蓋被清洗工件后，開始清洗作業，清洗過程會持續幾十秒到幾分鐘。