簡單來說，劃圈法測附著力標準該自動清洗平臺是多片同時清洗，優點是設備成熟，容量大，而單片清洗設備是一塊清洗，優點是清洗精度高，背面、斜面和邊緣都可以有效清洗，同時避免晶圓之間的交叉污染。在45nm之前，自動清洗臺就可以滿足清洗要求，目前仍在使用;45以下的工藝節點依靠單片清洗設備來實現清洗精度要求。隨著工藝節點的不斷減少，單片晶圓清洗設備是當前可預見技術下未來清洗設備的主流。
1.采用數控技術的先進自動化2.采用先進控制設備的高精度時間控制3.正確的等離子清洗不會損壞被包裝產品的表面4、包裝清潔產品表面二次不污染五。環保、環保、不污染環境。使用等離子清洗機時需要注意一些問題，劃圈法測附著力的精度清洗有幾個優點。等離子處理作為一種新型的表面處理技術，近年來已在各個行業得到應用。等離子技術也有自己的技術特點。
等離子體清洗還具有以下幾個特點：容易采用數控技術，劃圈法測附著力標準自動化程度高；具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層，表面質量得到保證；由于是在真空中進行，不污染環境，保證清洗表面不被二次污染。
由于等高子清洗機在運行時等離子體狀況的不同，劃圈法測附著力標準這也導致適合處理產。品的不同。像旋轉型的噴頭望文生義便是在處理產品時是可以旋轉的，處理規模相對較大。比照直噴式的噴頭，它的噴嘴是固定的，處理規模相對較小。所以說詳細選哪一種噴頭類型，仍是要看處理產品的類型。
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等離子體產生的氧自由基具有很強的活性，容易與碳氫化合物發生反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等揮發性物質，從而清除表面污染物。
按照產生氣體分類：活潑氣體和不活潑氣體等離子體活潑氣體和不活潑氣體等離子體，根據產生等離子體時應用的氣體的化學性質不同，可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類，不活潑氣體如氬氣（Ar）、氮氣（N2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）等，活潑氣體如氧氣（O2）、氫氣（H2）等，不同類型的氣體在清洗過程中的反應機理是不同的，活潑氣體的等離子體具有更強的化學反應活性。。
等離子蝕刻機技術已經被國外公司壟斷，芯片技術發展日新月異，即使我們花高價從國外購買，他們已經過時過時的老設備出口過去，真正先進的技術始終掌握在他們手中。為了打破國外對于芯片技術的壟斷，中國投入了大量的人力物力，經過中國研究人員的不懈努力，終于在蝕刻領域取得了技術突破，讓芯片技術不再卡在我們的脖子上，這種等離子蝕刻機下面是自己研發的等離子蝕刻機(等離子處理器)。
如果您對等離子表面清洗設備還有其他問題，歡迎隨時聯系我們（廣東金萊科技有限公司）
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