印刷基材行業:高頻板表面活化、多層板表面清洗、除垢、軟板、硬粘板表面清洗、除垢、軟板活化前加固。在集成電路領域:COB、COG、COF、ACF工藝，硅膠表面納米改質活化處理用于線材、焊接前的清洗;在硅膠、塑料和聚合物領域的表面粗糙度、蝕刻和活化。。紡織印染行業——等離子表面清洗機的應用:亞麻、絲綢、亞麻等原料一般透氣、穿著舒適，長期以來受到眾多消費者的青睞。

例如，硅膠表面活化能在汽車工業中，熱管散熱器和卡車車身的粘接面經過等離子設備前處理。等離子設備前處理后，不需要額外的清洗或其他前處理工藝，等離子設備技術能夠保證高粘接強度。（4）結合兩種不同原料的新技術，等離子技術應用于雙組分注塑工藝，新的復合材料應用于等離子設備技術的制造，能夠在雙組分注塑成型過程中將2種不謙容的原料穩固黏合在一塊。這主要涉及硬膠和軟膠的黏合，如硅膠和聚丙烯的復合材料。

等離子動能將硅膠制品表層的氧原子結構改善，硅膠表面納米改質活化處理將負電極硅膠制品表層改成正極，整個過程中采用無污染的有機化學品，并不會排放污染環境廢棄物，故此是清理生產工藝流程。其較低靜電能量特性，耐磨防塵效用高，提高硅膠制品表層親水性，提高油墨，膠水的粘接效果，主要用于各類高要求設備，如眼鏡框，手表表帶等，也可以用于醫療設備及運動產品，令這些設備有極佳表現。

寬線性等離子清洗機的特點和行業應用有哪些?寬線性等離子清洗機是大功率等離子處理器控制系統之一，硅膠表面活化能包括觸摸屏+PLC自動控制+大功率等離子發生器，進氣系統2-5種工作氣體可選:Ar2、N2、H2、CF4、O2。寬線形等離子清洗機特點:精度高、響應快、搬運方便、兼容性好、功能完善、專業。廣泛應用于:印刷線路板行業、半導體IC領域、硅膠、塑料、聚合物、汽車電子、航空工業等領域。

硅膠表面活化能

但是，由于硅膠制品表面多塵，制造商通常會在油漆上噴涂有機化學品，以提高硅膠制品表面的耐磨性、防塵性和親水性。然而，這種制造過程不僅僅增加了成本。但是，它也會干擾生態環境保護，干擾身體。健康。理論上，硅膠制品的表面層具有帶負電極和靜電能的氧原子結構，細顆粒中含有正電極，所以硅膠制品的細顆粒和靜電能表面相互吸引，表面變得塵土飛揚. 清潔困難，干擾設備的外觀和功能。

等離子表面蝕刻效果： 1、分類硅膠等離子表面處理設備的蝕刻功能可分為物理蝕刻和化學蝕刻兩大類。物理蝕刻是基于物理濺射原理，輸入非活性物質。金屬材料的表面蝕刻一般采用物理蝕刻法，化學蝕刻一般采用化學蝕刻法。 2.功能利用等離子的表面蝕刻效應，可以對材料表面進行凹陷和蝕刻，提高材料之間的附著力和可靠性，同時提高產品的質量和良率。

1.電子工業采用的等離子設備A.充填：改善灌注物的黏附性；填充是注入樹脂來保護電子元件。充填前的等離子體活化能保證良好的密封性能，減少漏電。良好的粘接性能。填充提供絕緣，并能防止濕度、高/低溫、物理和電子應力的影響。還具有阻燃、減震、散熱等功能。b.粘接板：提高制絲效果；C.提高塑料材料的粘結性能；等離子體設備技術非常適用于塑料、金屬、陶瓷、玻璃等材料的粘接預處理。在應用中，去除并保留稀疏的邊界膜。

與大氣等離子清洗機不同，另一種清洗溶液（溶液B）（主體為有機電解質，不易與銅金屬發生離子反應）與上述溶液的清洗效果進行比較。用溶液B清洗后，銅金屬層沒有大面積元素稀疏，銅損失造成的產品良率也沒有降低。這表明銅損失的主要原因是晶片表面有殘留電荷，溶液B不易與銅金屬發生離子反應。但是溶液B對硅銅、碳、銅渣的凈化能力很差，而且破壞過程中對金屬層兩側的電介電常數(K)值增大。

硅膠表面納米改質活化處理

氧分子和電子混合在等離子體中，硅膠表面納米改質活化處理其中自由氧原子具有很強的空氣氧化能力（約10-20%)，在高頻電壓下與晶圓光刻膠膜發生反應:O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。產生的二氧化碳和水發生反應，立即被泵出。表面等離子刻蝕機等離子除膠機具有使用方便、效率高、表面清潔、無劃傷、成本低、綠色環保等特點。

等離子體處理碳纖維表面，硅膠表面納米改質活化處理既能提高粘結性，又能保證纖維的抗拉強度不降低。此外，等離子體處理可以消除表面微裂紋，降低應力集中，提高碳纖維本身的抗拉強度。芳綸纖維和芳綸纖維的等離子體處理也是有效的。PET纖維應用廣泛，但染色性能、吸濕性和抗污染性能較差。等離子體處理后表面引入極性基團，產生自由基，產生交聯層，有效提高了各項性能。