殘留的光敏電阻、樹脂、液體殘留物和其他有機污染物暴露在等離子體區后，一種雙面電暈處理的薄膜電容器可以在短時間內去除。等離子體表面清洗表面改性（等離子體表面處理），即利用等離子體的特性對待加工固體原料表面進行清洗、活化、激發，以改變表面的微觀結構、化學性質和能量。等離子體是一種高能不穩定條件。利用這種高能和不穩定的條件，等離子體有了各種各樣的應用。

而且可以選擇性地清洗材料的整體、局部或復雜結構；九、在完成清洗去污的同時，一種雙面電暈機還能提高材料本身的表面性能。如改善表面潤濕性、提高薄膜附著力等，這在很多應用中都非常重要。接下來我講一下等離子清洗的缺點，也就是它的缺點；等離子清洗是一種微觀清洗，不適合污染嚴重的清洗。第一，等離子清洗有一個明顯的缺點，就是清洗的時效性。血漿清洗的時效性一般很短，從幾個小時到幾天不等。

對于這類電子應用，一種雙面電暈機等離子清洗機處理技術的特殊性能為該領域的工業化應用提供了新的可能。等離子清洗機在硅片和芯片工業中的應用；硅片、芯片和高性能半導體是高靈敏度的電子元件，等離子清洗機技術作為一種制造工藝也隨著這些技術的發展而發展。大氣環境下等離子體技術的發展為等離子體清洗提供了新的應用前景，特別是在自動化生產中發揮了重要作用。。

等離子體表面處理裝置在儀器制造領域的應用；等離子體表面處理裝置是一種非常有效的表面活化方法。等離子體表面處理特別適用于安全表面處理，一種雙面電暈機可實現在線工藝模式，廣泛應用于儀器制造領域。等離子體表面處理裝置和設備應用于醫療器械注射成型領域，其產品的尺寸精度和外觀質量至關重要。

一種雙面電暈處理的薄膜電容器

一、等離子處理器在工業清洗行業的優勢：a.環保技術：物體反應全過程為固體相干反應，不消耗水土資源，不需增加化學藥劑，對環境二次污染；b.適應性廣：可不區分待處理板材類型進行處理，如金屬材料、半導體材料、氧化物及大部分高分子材料；c.低溫：接近常溫，尤其主要用于高分子材料，比放電、火焰法保留時間長，表面張力系數高；d.功能強：只涉及高分子材料的淺表面，在保持材料本身特性的同時，能賦予其一種或多種功能；e.成本低：裝置簡單，操作維護方便，可連續運行。

我們還可以根據使用單元生產線的具體要求，將系統與生產線進行匹配，無論是新線還是老線都可以滿足。問：等離子清洗機在處理過程中會產生污染嗎？答：等離子表面處理是一種“干凈”的處理工藝。只要在處理過程中由于電離空氣而產生少量臭氧O3，在一些數據處理過程中就會分解出少量氮氧化物，因此應配備排氣系統。問：等離子清潔器需要特殊氣體嗎？答：除壓縮空氣外，在線辦理過程中不需要其他特殊氣體。

市面上的真空等離子體清洗設備大多是電容耦合放電，也就是CCP放電，大家購買使用的等離子體處理設備相信也大多是這種放電形式。在這類器件中，電極相當于電容器，通常成對，包括水平電極、垂直電極、組合電極等。無論是采用13.56MHz射頻激勵還是40kHz中頻激勵，等離子體發生器在一定真空環境下對電極施加能量時，電極之間會產生電位差，激發氣體產生等離子體。

產生等離子體的等離子體清洗/蝕刻裝置是將兩個電極布置在密封容器中形成電磁場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的距離和分子或郭的自由運動距離越來越長，在磁場作用下，碰撞形成等離子體，同時會產生輝光，等離子體在電磁場中運動，轟擊被處理物體表面，以去除表面油污和表面氧化物，灰化表面有機物和其他化學物質，從而達到表面處理、清潔和蝕刻的效果。通過等離子體處理工藝可以實現選擇性表面改性。

一種雙面電暈機

然而，一種雙面電暈處理的薄膜電容器由于電子是自由的，所以壁周圍只留下笨拙的離子，但整個腔室必須是電中性的，因此必須在壁上形成一個結構來阻止電子繼續下去隨后是圍繞壁的電離，這種結構平衡了等離子體的電中性特性。這種結構叫做護套，護套可以是上面提到的電容器。由于電容器處于放電環境，外部有電荷堆，因此形成電場，而電場必須對應電壓。因為到達電容器周圍的電荷堆是動態平衡的，這個電場和電壓是動態靜電場，也就是直流電場和直流電壓，所以形成VDC。