日本研究小組對35族化合物的中性粒子蝕刻進行了較多的研究。他們不僅使用了這種非常先進的蝕刻技術，軟質pvc附著力而且還使用了有機材料作為蝕刻的掩膜。本來，有機面罩的軟質材料在等離子體轟擊下容易變形、坍塌，產生缺陷，導致圖形定義的偏差。這也是集成電路的加工從軟的單層掩模材料逐漸向硬的多層掩模材料轉變的原因。但在中性粒子蝕刻技術中，更柔軟的有機掩模再次出現。由于中性粒子主要依靠干法化學蝕刻，電子溫度極低，能有效保護掩模材料。

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工藝：在雙組分注塑成型中使用等離子技術結合兩種不同材料生產新復合材料的新工藝 在使用等離子技術的雙組分注塑成型工藝中結合兩種不相容的材料 我可以。這主要包括硅橡膠和聚丙烯復合材料等硬質和軟質粘合劑的粘合。使用雙組分注塑成型工藝制造復合材料這是非常經濟的，軟質pvc附著力并且可以生產對材料有嚴格特定要求的新產品。

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影響等離子體清洗效果的因素:原理與實現方法等離子體清洗是依靠特定物質等離子體中的高能粒子撞擊被清洗物體表面，通過物理沖擊(如氬等離子體)或化學反應(氧等離子體)來達到去除物體表面污漬的功能。目前大多數等離子清洗系統是通過將反應室的壓力降低到Pa以下來獲得等離子體，而不需要以一定的速度通過適當的氣體，在常壓下啟動電源。二、影響清洗效果的主要因素1。

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