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PCVD工藝設備由沉積室、反應物輸送系統、放電電源、真空系統和檢測系統組成。氣源需要氣體凈化器去除水分等雜質，吉林等離子清洗機設備通過調節裝置得到所需流量后，與源料同時送入沉積室。在一定的溫度和等離子體活化等條件下，獲得所需的產物，沉積在工件或基體表面。因此，PCVD工藝既包括等離子體物理過程，也包括等離子體化學反應過程。。等離子體不穩定性可分為宏觀不穩定性和微觀不穩定性。
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等離子體處理時引入各種含氧基團，吉林等離子清洗機設備使材料表面性質由非極性、難粘接轉變為一定極性、易粘接、親水性，有利于粘接、涂布和印刷。低溫等離子體表面改性屬于固氣直接反應。它是一種無水處理技術。它可以大大節約水資源，節能環保，減少化學溶劑的使用和廢物處理。同時，該技術具有反應速度快、作用時間短、材料物理力學性能損失小等優點，可獲得多種改性效果。。
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其他部分也需要功能層：等離子墊圈涂層技術在不同金屬上有防腐層來防止腐蝕，然后與后續工藝結合。由于新技術、新材料的出現，現代包裝承擔了新的責任。例如，需要防止產品盜版或防止不當使用。不干膠標簽技術日益成為一種有效的防護技術。對于紙箱化工行業的安全生產，醫藥行業的目標就更高了。經過等離子體預處理后，標簽貼在小直徑、致密半徑上，即使是關鍵區域的首尾標簽也能保持良好狀態。這個標簽是完全防篡改的。
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2.干式真空泵冷卻干式真空泵在使用前會產生機械摩擦，使溫度升高，為了不使螺絲鎖緊，造成報廢，所以必須在干式真空泵使用過程中冷卻水冷卻。3.真空等離子體清洗機電極板的冷卻在使用過程中，如果功率較大或處理時間過長，會使極板溫度升高，需要使用工藝冷卻水對極板進行冷卻。4.工藝冷冷卻水一般要求一般等離子清洗機冷卻水的溫度為20-50，應根據實際情況進行調整。
等離子體處理通常是導致表面分子結構改變或表面原子取代的等離子體反應過程。即使在氧氣或氮氣等非活性氣氛中，等離子體處理在低溫下仍能產生高活性基團。在此過程中，等離子體還產生高能紫外線，與產生的快離子和電子一起，打破聚合物的鍵合鍵，產生表面化學反應應該提供所需的能量。只有材料表面的幾個原子層參與到這一化學過程中，聚合物的本體性質才能保持變形的可能性。
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