1.4 氧化物 半導(dǎo)體圓片暴露在含氧氣及水的環(huán)境下外表會構(gòu)成天然氧化層。這層氧化薄膜不但會妨礙半導(dǎo)體制作的許多工步,還包含了某些金屬雜質(zhì),在一定條件下,它們會轉(zhuǎn)移到圓片中構(gòu)成電學(xué)缺點。這層氧化薄膜的去除常選用稀氫氟酸浸泡完結(jié)。 等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝上的應(yīng)用 等離子體清洗具有工藝簡單、操作便利、沒有廢料處理和環(huán)境污染等問題。但它不能去除碳和其它非揮發(fā)性金屬或金屬氧化物雜質(zhì)。
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用等離子體進(jìn)行物理清洗不會產(chǎn)生氧化副作用，龍巖等離子清洗機(jī)裝置分子泵價格表保持被清洗物體的化學(xué)純度，并具有各向異性腐蝕作用。 3.3 反應(yīng)離子腐蝕化學(xué)清洗和物理清洗各有優(yōu)缺點。當(dāng)這兩種機(jī)制在反應(yīng)離子腐蝕中結(jié)合起來時，物理和化學(xué)反應(yīng)都起著重要作用，并相互促進(jìn)。選擇好、清洗速度快、均勻度好、方向性好。
6、設(shè)備組合性強(qiáng)：“低溫等離子體”產(chǎn)品重量輕，龍巖等離子清洗裝置羅茨真空泵定制體積小，可按場地要求立放、臥放，可根據(jù)廢氣濃度、流量、成份進(jìn)行串、并組合設(shè)計達(dá)到完全的廢氣凈化。 7、設(shè)備使用壽命長：本設(shè)備由不銹鋼材，銅材、鉬材、環(huán)氧樹脂等材料組成，抗氧化性強(qiáng)，對酸、堿氣體、潮濕環(huán)境等具有良好的防腐性能。使用壽命長達(dá)15年以上。
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當(dāng)能量密度超過0 kJ/mol時，CH4轉(zhuǎn)化率和C2烴產(chǎn)率隨著增加而迅速增加。能量密度慢。在這個反應(yīng)中，能量密度的增加并不意味著能量效率的提高，而是呈下降趨勢。因此，從能源效率的角度來看，您需要選擇合適的能量密度。 N2添加對等離子體中CH轉(zhuǎn)化反應(yīng)的影響：隨著供氣中N2濃度的增加，CH4轉(zhuǎn)化率增加，說明惰性氣體中有N2。對 CH4 轉(zhuǎn)換很有用。
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