1.配藥前Crf等離子清洗機、uv等離子清洗機基板上的污染物會導致uv膠呈球形，電暈處理機功率顯示負值Crf等離子清洗機可以進一步提高產品工件表層的粗糙度和親水性，更有利于uv膠的鋪貼和加工芯片的粘貼，同時可以大大節省uv膠的消耗，降低成本。

油污通常是精密零件清洗在加工零件表面的殘留物，電暈處理機功率顯示負值O2等離子去除效果尤為明顯。在最近的研究中，人們也提到了等離子體清洗對材料表面造成的濺射損傷。事實上，只要能量控制得當，輕微的表面損傷就能大大增強附著力，在某些情況下成為不可或缺的過程，比如用氬等離子體去除某些材料的表面氧化物。當然，一些工藝試驗表明，采用分步清洗工藝可以將損傷降低到最低程度。此外，血漿清洗殘留物的毒性在國外已有深入研究。

2.聚合物清洗聚合物表面清洗等離子體燒蝕通過高能電子和離子轟擊材料表面，電暈處理機功率顯示負值機械地去除污垢層。等離子體表面清洗可以去除某些加工后聚合物中可能存在的污垢層、不想要的聚合物表面涂層和弱邊界層聚合物表面復合等離子體燒蝕中使用的惰性氣體破壞了聚合物表面的化學鍵，導致聚合物表面形成自由官能團。

由于等離子體中的絕緣體通常被稱為浮動襯底，電暈處理機可定制加工因此絕緣體的電位常被稱為浮動電位。很明顯，浮置電位為負值，浮置襯底與等離子體交界處形成由正離子組成的空間電荷層。因此，放置在等離子體中的任何絕緣體，包括反應器壁，都會形成離子鞘層（如圖1-3所示）：圖1-3浮動襯底上的離子鞘層等離子體鞘層是等離子體的重要特征之一。

電暈處理機可定制加工

在等離子體中，由于電子的速度比重粒子快，絕緣體表面會出現凈負電荷積累，即表面相對于等離子體區域有負電位。表面區域的負電位排斥隨后向表面移動的電子，并吸引正離子直到它們熄滅邊緣表面的負電位達到一定值，使離子電流等于電子電流。此時絕緣體的表面電位Vf趨于穩定，Vf與等離子體電位之差（Vp-Vf）保持恒定。此時，在絕緣體表面附近有一個空間電荷層，這是一個離子鞘層。

低溫等離子體應用已成為具有全球影響力的重要科學與工程，對高科技經濟發展和傳統產業改造產生重大影響。等離子體清洗機是其重要應用之一，并取得了良好的響應。該機采用氣體作為清洗介質，有效避免了液體清洗介質對被清洗物造成的二次污染。等離子清洗機外接真空泵。工作時，清洗腔內的等離子體輕輕沖刷被清洗物體表面，經過短時間的清洗，有機污染物就能被徹底清洗干凈。同時通過真空泵將污染物抽走，清潔程度達到分子級。

等離子體誘導聚合(PIP)是在輝光放電條件下，由活化粒子（分子）誘導，自由基出現在表面，然后與單體結合的聚合，如分子鏈交聯或側鏈接枝、官能團置換和嵌段聚合等。通過等離子體誘導聚合形成聚合物，單體必須含有聚合能的結構，如雙鍵等離子態聚合(PSP)是等離子體活化粒子再聚合并沉積到表面層的過程。這種聚合是原子在等離子體中發生的過程。。

各種試劑和化學藥品配制的清洗液與金屬離子反應形成金屬離子絡合物，從晶圓表面分離出來。氧化物：暴露在氧氣和水中的半導體晶圓表面會形成自然的氧化物層。這種氧化膜不僅阻礙了半導體制造的許多步驟，而且含有一些金屬雜質，在一定條件下會轉移到晶圓上形成電缺陷。這種氧化膜的去除通常是通過在稀氫氟酸中浸泡來完成的。

電暈處理機可定制加工

其中負電荷等于正電荷，電暈處理機可定制加工所以叫等離子體，是一組正離子，是負離子、負離子、自由基和各種特定的官能團。等離子體自然地以閃電的形式出現，或者南北兩極的極光。當一個明亮的環（日冕）出現在太陽周圍時，它也是存在的等離子體。當能量輸入增加時，物質的形式會從固態變為液態。如果通過放電增加能量，氣體就會變成等離子體。利用等離子體轟擊物體表面，可以實現對物體表面的腐蝕、活化、清洗等功能。