低溫等離子體中粒子的能量一般在幾十電子伏特左右，電暈處理pp材料表面大于高分子材料的結合鍵能（幾十電子伏特），大分子的化學鍵可以被打破形成新的鍵；但遠低于高能放射線，只涉及材料表面，不影響基體的性質。在非熱力學平衡低溫等離子體中，電子具有更高的能量，可以打破材料表面分子的化學鍵，提高粒子的化學反應活性（高于熱等離子體），而中性粒子的溫度接近室溫。這些優點為熱敏性聚合物的表面改性提供了適宜的條件。

等離子體中的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、激發核素、光子等，電暈處理pp材料表面利用這些活性成分的性質對樣品表面進行處理，達到清洗、改性、涂布、光刻膠等目的。。等離子體表面處理清洗技術已廣泛應用于許多領域：1.等離子體表面處理技術天然橡膠、丁苯橡膠、丁腈橡膠、氯丁橡膠表面用濃硫酸處理時，希望橡膠表面發生輕微氧化。因此，涂酸后應在短時間內將硫酸徹底洗掉。過度氧化在橡膠表面留下更多脆弱的結構，不利于粘合。

低溫等離子體處理器清洗是利用等離子體中各種高能物質的活化作用，電暈處理pp材料表面將粘附在物體表面的污漬徹底分離。低溫等離子體處理器清洗的一個特點是，物體表面經過等離子體處理后，往往會產生很多新的活性基因，激活物體表面，改變其性能，大大提高物體表面的潤濕性和附著力，這對很多材料來說非常重要。因此，低溫等離子體處理器的清洗和許多有機溶劑的濕式清洗是無法相比的。

通過一系列反應和相互作用，電暈處理pp材料表面等離子體可以將這些塵埃顆粒從物體表面完全清除掉。這可以大大降低質量要求高的涂裝作業的廢品率，如汽車行業的涂裝作業。通過微觀層面的一系列物理和化學作用，等離子體表面清洗可以獲得精細、高質量的表面。等離子體清洗工藝可獲得真%清洗；與等離子清洗相比，水洗通常只是一個稀釋過程；與CO2清洗技術相比，等離子清洗不需要消耗其他材料。

電暈處理機在吹膜中的作用

玻璃等離子清洗機表面清洗鍍膜，提高結合強度；手機屏幕會隨處涂抹在表面，其作用也各不相同，有的是為了提高透光率；有的為了提高疏水性和疏油性而刷AF膜（防指紋膜，其實它的實際作用大多是防指紋）。有些原材料表面表面很光滑，有些表面容易形成空氣污染物，其表面難以電鍍處理，或者表面電鍍容易掉落，就像鐵銹刷漆容易掉落一樣。

在清理過程中，表面的污染物分子很容易與高能自由基結合產生新的自由基，這些新的自由基也處于高能狀態，極不穩定，它很容易自我分解并轉化為更小的分子，同時，產生新的自由基，這個過程會不斷地進行下去，直到分解成穩定的揮發性簡單小分子，最終，污染物從金屬表面分離出來，在這個過程中，自由基的主要作用是活化過程中的能量轉移，在自由基與表面污物分子結合的過程中，會釋放出大量的結合能，釋放出的能量作為驅動力，促進表面污物分子發生新的活化反應，有利于污染物在等離子體活化下的徹底清除。

等離子體去除油膜、微生物或其他污染物，這些污染物是在儲存或預制過程中通過化學轉化產生的揮發性氣體附著在材料表面而形成的。等離子體放電可以清潔注塑添加劑、硅基化合物、脫模劑和部分吸收的污染物，可有效去除塑料、金屬和陶瓷中的污染物。干擾后續制造的塑料添加劑也可以通過等離子體方法去除，而不會在去除過程中破壞或改變基底的特性。此外，利用等離子清洗技術，還可以清洗儀器部件及其敏感部件或其表面的植入物。

5.成本低：設備簡單，操作維護方便，可連續運行；往往幾瓶煤氣就能代替上千公斤的洗滌劑，所以洗滌量會比濕式清洗少很多。6.全過程控制：所有參數均可電腦設定，數據記錄，質量控制。7.被處理對象的幾何形狀不限：大小、簡單或復雜、零件或紡織品均可處理。在封膠前用等離子清洗機對LED進行表面處理后，芯片和襯底與膠體結合會更加緊密，氣泡的形成會大大減少，散熱率和出光率都能得到明顯提升。

電暈處理pp材料表面

第一個方程表示氧分子獲得外部能量后變成氧陽離子，電暈處理機在吹膜中的作用發射自由電子的過程。第二個方程表示氧分子獲得外部能量后分解形成兩個氧原子自由基的過程。第三個方程表明氧分子在高能激發自由電子的作用下轉變為激發態。第四和第五反應表明激發的氧分子發生了進一步的轉變。在第四個反應中，氧氣使大腦饑餓以恢復正常狀態，并發射光能（紫外線）。在第五個方程中，激發態的氧分子分解成兩個氧原子自由基。

等離子體設備的形成主要依靠電子器件撞擊中性氣體原子，電暈處理pp材料表面中性氣體原子解離形成等離子體，但中性氣體原子對其周圍的電子器件有一種約束能，稱為約束能，外部電子能必須大于這個約束能，中性氣體原子才能解離。然而，外部的電子器件往往缺乏能量，離解式醫療器械行業還沒有等離子體設備清洗技術的分析和應用！中性氣體原子的能力。因此，我們必須加上能量，給電子以能量，使電子器件解離中性氣體原子。