對硅橡膠表面進行等離子體處理，CCP等離子體表面清洗器發現n2、ar、o2、ch4-o2、ar-ch4-o2等離子可以提高硅橡膠的親水性。有效的。很好，不會隨著時間的推移而惡化。通過在適當的工藝條件下對pe、pp、pvf2、ldpe等材料進行冷等離子體處理，使材料的表面形貌發生劇烈變化，引入各種含氧基團，表面為非-極性且粘性較小。它具有一定的極性、粘合性和親水性，可用于粘合、涂布和印刷。
在防止膠粘劑剝落方面，CCP等離子蝕刻機使用熱熔膠等高檔膠粘劑，可以在一定程度上防止膠粘劑剝落，增加了成本。脫膠一次也有投訴和退貨。等離子表面處理裝置發射的粒子能量一般在幾個到幾十個電子伏特之間，大于高分子材料的結合能（幾到幾十個電子伏特），形成化學鍵。它可以被完全破壞。它與有機大分子形成新的鍵，但遠低于高能放射線，只包含材料表面，無磨損，不影響基體性能。
等離子清洗機具有以下優點： (1)改善只發生在材料表面(10-～o～10-6m)，CCP等離子蝕刻機不影響基體固有性能，處理均勻。 ②作用時間短。 （幾秒到幾十秒）、低溫、高效率； 3、對加工材料沒有嚴格要求。通用，不污染，不需要廢液，進行廢氣處理，節能降本。該工藝簡單易操作。如今，等離子清洗機對其材料進行了改進，現階段廣泛應用于電子、機械、紡織、航空航天、印刷、環保和生物醫藥等領域。
2.磅力/英寸（LBF/IN，CCP等離子體表面清洗器PSI） 壓力單位的磅力/英寸符號為LBF/IN，PSI不應寫為IBF/LNPSI。 3.毫米汞柱 (MMHG) 壓力單位必須是毫米汞柱。記為 MMHG；4。英寸汞柱 (INHG) 壓力單位中的英寸汞柱符號為 INHG。不要寫 INHG； 5、英寸汞柱 (MMHO) 壓力單位的毫米水柱符號是 MMHO。不要寫MMHO。
CCP等離子蝕刻機
為什么薄膜的親水性越來越好？這是因為普通高分子材料的表面經過NH4、O2、H2、N2、Ar等處理后，會被激發產生各種自由基。處理后，自由基與空氣中的氧氣迅速反應，形成羧基、羥基、氨基等極性基團。這使得表面更親水。在這些氣體中，氫、氮和氬等稀有氣體是非反應性等離子體，氨和氧等離子體是反應性等離子體。所謂非反應型，是指等離子體中的自由基和離子不與材料表面發生化學反應，只起激發自由能的作用。這需要材料與空氣接觸。
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