當生產線速度達到 120 m/min 時，上光油對油墨附著力的影響該系統可以輕松地將糊盒機與機電聯動集成。 ..只需幾分鐘即可到達糊盒機。處理后的表面可以達到 200 M / MIN 的表面能，使水可以完全散布在這樣的表面上。加工后，您可以使用傳統的冷膠通過快速糊盒機制作腹膜或涂漆紙板。不再需要部分腹膜、部分上光、表面拋光、切線工藝來實現可靠的粘合，不同的紙板需要更換不同的專用粘合劑。

等離子清潔活化處理應用包括改進清潔，上光油對油墨附著力的影響鉛連接，除渣，塊粘附，活化和蝕刻。。在集成電路或MEMS微/納米加工工藝前，將晶圓表面涂上光刻膠，然后光刻、增強，但光刻膠只能對介質進行圖形轉換，印刷后，在光刻膠上形成微/納米形狀后再進行下一步的生長或蝕刻工藝，后需以某種方式拔除光阻膠。等離子清洗機也稱等離子打膠機，可以實現這一功能。

取消了傳統的局部粘合、局部上光、表面拋光或切膏、機械拋光、打孔、特殊粘合等方法，上光油對油墨附著力的影響提高粘合效果??。顯著降低色工廠的制造成本，提高工業生產效率。

等離子清洗機在手機行業的應用 在當今的消費電子市場中，上光油對油墨附著力的影響除了純技術特性（等離子表面處理設備）外，設計、外觀和手感也是影響購買決策的主要因素。高質量的外殼設計對于手機來說尤為重要，制造商總是在考慮整體質量和設計（等離子表面）的同時尋求采用環保制造技術。避免含有設備的系統）和揮發性有機化合物。大氣等離子清洗機處理已在手機行業使用多年，賦予手機高品質外觀。等離子能量提供的超精細清潔可去除所有顆粒。

上光油對油墨附著力的影響

二氧化碳經歷 C-0 鍵斷裂以產生與 CH4 或甲基自由基相互作用的活性氧物質。產生更多的 CHx (x = 1-3) 自由基。供給氣體中的二氧化碳濃度越高，提供的活性氧種類越多，CH 轉化率越高。因此，CH轉化率與系統中高能電子的數量和活性氧濃度兩個因素有關。二氧化碳的轉化率與高能電子與二氧化碳分子的碰撞有關。這種彈性或非彈性碰撞有利于以下情況： (1) CO和O是通過CO破壞二氧化碳產生的。

等離子清洗后的引線框架水滴角會有明顯的減小，能有效地去除其表面的污染物及顆粒物，有利于提高引線鍵合的強度和降低封裝過程中芯片分層的發生，這對于提高芯片本身的質量和使用壽命提供了相應的參考依據，為提高封裝產品的可靠性提供了一定的借鑒。。引線連接前的plasam清洗大大降低鍵合區的失效率: plasam清洗工藝中，除選擇工藝氣體、等離子電源、電極結構、反應壓力等因素外，還應考慮其它因素。

抽氣速度越快，后底真空度值越低，說明殘余空氣越少，銅載體與氧等離子體反應的機會越小;當工藝氣體進入時，形成的等離子體可以與銅載體充分反應，而非激發的工藝氣體可以很容易地帶走反應物。銅支架清洗效果好，不易褪色。真空等離子體處理系統電源對凈化效果和銅支架變色的影響:真空等離子體處理系統功率相關因素包括能量功率和單位功率密度。

不同的等離子體產生的自偏壓是不同的。超聲波等離子的自偏壓在0V左右，高頻等離子的自偏壓在250V左右，微波等離子的自偏壓很低，只有幾十V。等離子體的作用機制不同。超聲波等離子產生的反應是物理反應，高頻等離子體產生的反應既是物理反應又是化學反應，微波等離子體產生的反應是化學反應。射頻等離子清洗和微波等離子清洗主要用于現實世界的半導體制造應用，因為超聲波等離子清洗對待清洗表面的影響最大。

上光油對油墨附著力的影響

在射頻等離子發生器的等離子化學氣相沉積（MPCVD）法制備金剛石之初，上光油對油墨附著力的影響MPCVD法制備金剛石的優勢就非常明顯。世界上最好的鉆石基本上都是MPCVD法，與其他生長方法相比，它具有無極性放電、生長速度快、鉆石雜質減少等優點，使其成為生長鉆石的理想方法。近年來，MPCVD技術取得了長足的進步，對金剛石氣相沉積工藝參數影響的研究已經成熟，但對MPCVD器件諧振腔的研究仍需進一步研究。