等離子體中的大多數離子，附著力好的金屬底漆除離子外，具有比化學結合能更高的能量。這表明等離子體可以破壞材料表面的化學鍵并形成新的鍵。等離子體處理的表面改性是將材料暴露于非聚合物氣體的等離子體中，使等離子體與材料表面發生碰撞，從而改變聚合物結構，達到對聚合物表面進行改性的目的。材料。等離子處理主要針對惰性氣體。有機高分子材料經氧氣、氮氣、氫氣、氬氣等非聚合物無機氣體處理后，與空氣接觸，在表面引入官能團形成交聯。
這類較高能電子與氣體中的分子結構、分子產生撞擊，附著力好的金屬底漆電子的動能超過分子結構或分子的激起能，便會造成激起分子結構或激起分子氧自由基、正離子和具備不一樣動能的輻射線，它們根據離子轟擊或引入高聚物表層，造成斷鍵或導入官能團異構，進而使表層產生特異性化，進而做到改性材料的目地。
涉及的反應主要有兩種：一種是化學反應，附著力好的金屬底漆主要以H2、O2、N2、CO2、CF4、空氣等作為介質，經高壓電離后生成高活性的自由基粒子，與材料表面的物質發生氧化還原反應生成新物質并被排出材料表面；另一種是物理反應，采用Ar、He等惰性氣體作為介質，這些氣體在電離后產生的正離子、電子等高能粒子能夠不斷沖擊材料表面，直至污染物脫離材料表面。
等離子體中存在以下物質：；高速運動的電子；處于激發態的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子：分子解離反應過程中產生的紫外光；未反應的分子、原子等，附著力好的金屬底漆但該物質整體上保持電中性。等離子清洗機就是利用等離子體中的活性粒子來對物體表面進行清潔。活性粒子會與表面的有機物或者氧化物等發生化學反應進而生成易于揮發的物質可以被真空泵排出反應腔體達到清洗物體表面的效果。
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速率分布一般氣體的速率分布滿足麥克斯韋分布，但等離子體由于與電場的耦合，可能偏離麥克斯韋分布。
等離子體清洗常用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應系統中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發性氣體狀態物質被抽走。這種清洗技術在去膠工藝中具有操作方便、效率高、表面干凈、無劃傷、有利于確保產品的質量等優點,而且它不用酸、堿及有(機)溶劑等,因此越來越受到人們重視。
它分解成電子以及帶正電和帶負電的原子和分子。在這個過程中產生的帶電粒子和電子在受到電場加速時獲??得高能量，并與周圍的分子和原子發生碰撞，從而使分子和原子被電子重新激發，成為自己激發的產物。物質處于等離子體狀態時的離子狀態。 3.真空等離子表面處理系統中的等離子種類根據溫度的不同，可分為高溫等離子體和低溫等離子體兩種。
真空等離子體清洗機利用兩個電極形成電磁場，配合真空泵達到有效真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子與分子或離子之間自由運動的距離也越來越長，通過磁場碰撞和等離子體的形成和輝光的作用。等離子體在空間電磁場中運動，并不斷轟擊待處理物體的表面，去除表面油污和表面氧化物、表面灰分(機)等化學物質，從而達到表面清潔和蝕刻(果品)的效果。
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