利用等離子體能量修飾硅膠表面的氧原子，硅膠plasma清洗設備使負的硅膠表面變成正的，在加工過程中使用無害的有機化學品，不會排放污染物，是一個清潔的生產過程。它有較低的靜電特性,更好的防塵效果,改善硅膠表面的親水性,提高油墨和膠水的粘結效果,適合各種高要求的產品,如眼鏡架,表帶,等等,也可以用于醫療設備和體育用品,使這些產品性能更好。

等離子體器件處理作為一種新型的表面改性方法，硅膠plasma蝕刻設備以其低能耗、低污染、處理時間短、效果顯著等特點引起了人們的關注。在眾多的清洗改性方法中，低溫等離子體清洗是近年來發展最快的方法之一。與傳統的濕法相比，等離子體設備具有以下優點:1. 大量離子、激發態分子、自由基等活性粒子作用于固體樣品表面，不僅去除表面原有的污染物和雜質，而且產生腐蝕，使樣品表面粗糙，形成許多小凹陷，增加樣品的比例。提高硅膠表面的潤濕性。

我們提供大氣等離子表面處理設備后，硅膠plasma清洗設備大大提高了客戶的產品良率。以下是具體的測試流程——LED灌封封裝前的等離子體表面處理:產品名稱:LED燈;3.客戶要求:LED燈密封封裝后，LED燈內硅膠接近LED芯片，無氣泡圖案;型號:PM-G13A等離子表面處理器，加工寬度50-55mm，最大功率850W;處理方法:將LED芯片放在流水線上，正負兩面加工一次，其他密封工藝不變。

等離子體表面處理對提高硅膠的表面容量和粘接強度有明顯的效果。等離子體表面處理有幾個細分。接下來我們來看看硅膠材料等離子體表面處理的特點和工藝:硅膠等離子體表面處理可以提高粘接效果。等離子體表面處理是通過等離子體與硅膠表面的化學或物理作用，硅膠plasma蝕刻設備使硅膠表面形成規定性，形成親水自由基或一些粗糙度。硅膠表面與粘接強度呈線性關系。等離子體處理可以改變表面組成，引入不同的特定官能團，添加硅膠粘接組分，從而顯著提高粘接強度。

硅膠plasma清洗設備

腐蝕均勻而精細的凹凸結構，纖維中加入硅顆粒。分形，類似于在纖維表面覆蓋一層硅膠顆粒，還能獲得理想的凹凸表面結構，使滌綸染色。。網上的使用壽命有多長低溫等離子發生器非標準設備:身材來衡量非標設備線性低溫等離子發生器是一個重要的衡量的質量已成為人們的共識,事實上,非標準設備的完整的測量是一個重要的測量的質量,與質量無關，雖然質量因素占了很大的比重，但還是有很大一部分原因是設備的維護。

所以客戶會問，如何驗證等離子體處理后親水性是否有所改善?可以通過水滴接觸角的大小來判斷，如下圖所示:(硅膠等離子體處理，疏水)(硅膠等離子體處理，親水)結果表明，硅膠未經等離子體處理，水滴接觸角為90°，憎水;等離子體處理后，水滴接觸角為45°，親水。

所以它和超聲波清洗機，或者常用的藥物清洗是完全不同的概念，它可以徹底解決工業生產中的表面處理問題，并且有效的解決了工業產品在加工過程中的二次污染問題，從根本上解決了環境要求問題。因為是在室溫下，對產品沒有損壞，這無疑是客戶在選擇等離子設備時最放心的產品。。等離子清洗機分為國產和進口兩種，主要針對客戶要求來選擇配置。等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子鍍膜、等離子灰化及表面改性等場合。

優異的熱穩定性、化學穩定性和機械強度。等離子體聚合沉積的聚合物膜在結構上與普通聚合物膜不同，等離子體表面處理設備可以在許多方面賦予新的功能，提高材料的性能。

硅膠plasma蝕刻設備

如果您對等離子表面清洗設備有更多的疑問，硅膠plasma蝕刻設備歡迎咨詢我們(廣東金來科技有限公司)

通過等離子體表面處理器工藝對P/OLED表面活性進行改性:P/OLED設備解決方案，硅膠plasma清洗設備在P中:清洗觸摸屏關鍵工藝，提高OCA/OCR、貼膜、ACF、AR/AF等工藝的附著力/鍍膜力，借助各種大氣壓等離子體，可消除氣泡/異物，均勻放電各種玻璃、膜，使表面不損傷。氮氣(N2)是一種應用廣泛、生產成本低的氣體。本發明專利技術的氣體主要是結合在線等離子體表面處理技術對材料進行表面活性改性。