真空系統和真空室可根據客戶特殊要求定做！電暈等離子機的技術原理也是我們經常向客戶提到的電暈等離子處理器的9大特點。也可以看出我們的電暈等離子機具有特定的市場競爭力！不少客戶借助線上咨詢獲得了優惠價格！并與德國先進的技術合作，電暈絲處理形成了卓越的品質！。電暈等離子體處理器是根據工業和研發用戶的需要開發的：低電暈等離子體處理器是一種新興的高新技術，它采用等離子體來滿足常規清洗方法所不能滿足的效果。

無論是在處理表面涂布還是粘接，電暈絲處理對材料表面進行有效活化處理是必要的工藝步驟，等離子清洗機是一種低成本、環保的預處理工藝；無電暈效應預處理；材料在加工過程中不暴露在高電壓下。。等離子清洗機設備的特點是無論待處理基片的類型如何，均可對玻璃、金屬、半導體、氧化物及大部分高分子材料進行處理，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧，甚至聚四氟乙烯等，可實現整體和局部清洗以及復雜結構的清洗。

因此，電暈絲處理過程電場直接將動能傳遞給反應室中的氣體分子，產生具有足夠動能的電子與氣體分子進行非彈性碰撞，將電子的動能幾乎全部傳遞給參與反應的氣體分子，電暈等離子體處理器使反應室中的氣體產生大量的光子、電子、離子、自由基、活性原子、激發態原子和活性分子等，為其化學變化提供極其活躍的粒子，從而使許多化學變化條件變得溫和，提高了化學變化效率。

按頻率可分為直流放電、高頻放電和微波放電等離子體。低溫等離子體表面處理技術不僅可以改變炭材料的表面化學性質，電暈絲處理還可以控制材料的界面物理性質，可以使炭材料的表面成分發生明顯變化，在炭材料表面處理方面顯示出廣闊的應用前景。DBD是一種典型的非平衡交流氣體放電，具有輝光放電的大空間均勻放電和電暈放電的高壓運行特點。DBD可以工作在高壓和寬頻率范圍內。

電暈絲處理過程

結果表明，復合反應的主要產物是合成氣，只生成少量烴類（主要是C2H6)。但DBD放電等離子體作用下CH4和CO2的重組轉化率相對較低，反應能耗很高。Li等分別考察了直流和交流電暈放電下CH4與二氧化碳的復合反應。實驗結果表明，CH在電暈放電等離子體清洗機作用下4與二氧化碳重組反應可獲得較高的反應物轉化率、H2選擇性和CO選擇性。相比之下，直流電暈放電獲得的反應物轉化率高，交流電暈次之，直流電暈較低。

常壓等離子體清洗機2：所選氣體有差異，各種復雜工藝在真空室內精確控制。平時有多種氣體可供選擇。常用的有氫氣、氧氣、氬氣等。每種氣體的性質不同，所能達到的效果（效果）也不同。混合氣體將被更多地使用。常壓等離子體常用普通壓縮空氣，當然也可以連接氮氣。例如，在電暈飛機中，如果有一些特殊要求，氮氣處理是連接的。很多國內公司做不到這個過程，但好消息是可以做到。大氣等離子體清洗機3：它是清洗溫度。

處于等離子體狀態的物質有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應的分子、原子等，但物質作為一個整體保持電中性。當壓力一定時，在真空腔內，穩壓器以高能啟動無序的受壓體，通過等分體轟擊清洗后產品的表層。為了達到清洗要求。等離子體清洗機又稱等離子體表面處理器，是一種全新的高科技新技術，可以達到常規清洗方法無法達到的效果。

通過等離子清洗機的表面處理，可以提高材料表面的潤濕能力，從而可以對各種材料進行涂層、電鍍等，增強附著力和結合力，同時去除有機污染物、油污或油脂；等離子清洗機的預處理工藝可以徹底去除玻璃表面的有機污染物和其他雜質，提高附著力，從而提高附著力質量，降低廢品率。等離子清洗機也適用于熱壓焊接和精密焊接工藝。。LCD玻璃采用低溫等離子體技術清洗，去除雜質顆粒，提高材料表面能，產品成品率提高數量級。

電暈絲處理過程

你也可以在擋風玻璃刮水器上涂減摩涂層或在電腦磁盤上涂低摩涂層，電暈絲處理以減少磁頭沖擊。等離子清洗機最大的特點是可以處理金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧，甚至聚四氟乙烯等，可以實現整體和局部、復雜結構的清洗。想了解更多低溫等離子清洗機應用技術，歡迎關注“”！。

等離子體表面處理器的作用機理主要是通過等離子體中活性粒子的活化去除物體表面的污漬。從化學反應原理等離子體表面處理器通常包括以下過程：無機蒸氣被激發成等離子體；氣相化學物質粘附在固體表面；通過粘接官能團與固體表面大分子的化學反應轉化為材料大分子；材料高分子分析產生氣相；材料高分子分析產生氣相；化學反應殘留物從表面分離出來。