為了顯著提高此類表面的粘度和激光焊接的抗拉強度,電感耦合等離子體刻蝕英文等離子金屬表面處理系統(tǒng)目前用于液晶顯示器、LED、LC、PCB電路板、SMT排列、貼片電感、柔性清洗和蝕刻工藝等。電路板和觸摸顯示器。等離子清洗的 LC 顯著提高了鍵合線的抗拉強度并降低了電路故障的可能性。殘留的光刻膠、環(huán)氧樹脂、液體殘留物和其他有機化學污染物暴露在等離子區(qū),可以在短時間內完全去除。

電感耦合等離子體質譜儀

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纖維、精煉鈮、鉭、海綿鈦等(2)高頻等離子流速慢(約0~10m/s),電感耦合等離子體刻蝕英文弧柱直徑大。最近幾年從那時起,等離子發(fā)生器在實驗室中被廣泛使用,以促進大量的等離子工藝測試。在工業(yè)上制備金屬氧化物、氮化物、碳化物或熔煉金屬時,氣相反應就足夠了,因為反應物在熱區(qū)中停留的時間較長。高頻等離子炬可分為電感耦合、電容耦合、微波耦合和火焰類型,這取決于耦合功率和等離子體的不同方法。

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這不僅降低了反應粒子的濃度,而且還冷卻了等離子體,減慢或停止反應速率。 1 高頻感應等離子發(fā)生器又稱高頻等離子炬或高頻等離子炬。無極電感耦合用于將高頻電源的能量輸入到連續(xù)氣流中進行高頻放電。 2 電弧等離子發(fā)生器,也稱為電弧等離子炬或等離子噴槍,有時也稱為電弧加熱器。這是一種可以產生定向低溫(約2000-20000K)等離子射流的放電裝置。

產生射頻場的方法有很多,射頻場能量的組合功率和等離子體的均勻性都在很大程度上取決于射頻感應電極、線圈或天線的設計。工業(yè)中使用的兩種典型的射頻等離子體發(fā)生器是圖(A)所示的電容耦合等離子體(capacitively Coupled plasma,CCP)發(fā)生器和電感耦合等離子體(Inductively Coupled Plasma,ICP)發(fā)生器或轉耦合等離子體(TRANSFORMER)。

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電感耦合等離子體刻蝕英文

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