近年來，等離子體顯示板在工業、農業、生物醫藥等領域顯示出廣泛的應用前景。結合公司戰略規劃，黃青研究員提出了利用等離子清洗機的生物技術處理廢水和分解抗氧化劑的方案。最近，他們對抗菌藥物諾氟沙星進行了詳細研究，發現等離子洗滌器形成的O3可以與諾氟沙星形成脫氟反應，裂解諾氟沙星的羧基和喹諾酮基團。試驗表明，該催化劑可以實現諾氟沙星的高效快速降解。同時，該技術對土霉素、四環素、金霉素、強力霉素等抗生素的降解效果顯著。

除此之外，等離子體顯示板是由幾百萬個像素單元構成的該公司使用晶圓制造硅電池，就像半導體公司制造處理器一樣。目前，等離子清潔器主要用于清潔硅片和去除光刻膠，人們也對這種方法非常感興趣以硅片制造電池，目前，新能源研發硅電池已有15年的歷史，其能量密度是鋰電池的4倍，成本低。一半的鋰電池及其“多孔”的硅電池可以應用于很多場景，比如智能手機等很多智能設備。

(4) 建議為使用四氟化碳的等離子體配備防腐干式真空泵。等離子設備在表面處理中的應用 等離子設備在晶圓處理中的應用 晶圓處理在表面處理中的應用：晶圓處理在國內半導體產業鏈中占資金投入的大部分，等離子體顯示板是由幾百萬個像素單元構成的目前使用等離子設備。廣泛應用于硅晶圓代工廠，也有專門的晶圓加工等離子設備。中國代工行業對整個半導體產業鏈進行了重大投資。

(1)將待清洗工件送入真空室固定，等離子體顯示板啟動操作裝置。 , 開始排氣，讓真空室內的真空度達到10PA左右的標準真空度。正常排氣時間約為 2 分鐘。 (2) 將等離子清洗氣體引入真空室，保持壓力在 100 帕。可根據清洗劑的應用選擇氧氣、氫氣、氮氣、氬氣等氣體。 (3)通過在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體分解，通過輝光放電產生電離和等離子體。當真空室內產生的等離子被完全包圍后，被加工工件開始清洗。

等離子體顯示板

1、等離子發生器的工作原理等離子發生器在噴嘴管內形成具有激發和調諧的高壓高頻能量的低溫等離子，并借助壓縮將等離子噴射到產品表面。當等離子體遇到被處理物品的表面時，碳氫化合物污漬如油和輔助添加劑的去除取決于有機化學和物理條件的形成、表面清潔、材料成分和表面...分子鏈結構發生了變化。建立羥基、羧基等自由基，促進各種涂層材料的結合，改善結合和涂層應用。

一方面，電氣設備具有足夠的動能來激發、電離和解離反應性分子，另一方面，它們可以使系統保持低溫，接近室溫。電極間高壓電場的作用產生大量高能粒子，如電子器件、離子、分子、中性原子、激發原子、光子、自由基等。粒子等于宏觀電中性。集中在等離子體表面處理裝置中的高活性粒子具有以下特征。活性大氣，高活性粒子具有很高的動能和電場內能，提供了活化能和化學反應發生化學反應的可能性。

與氧氣一樣，氫氣是一種高反應性氣體，可以活化和清潔表面。氫和氧的主要區別在于反應后形成的不同活性基團。同時，氫氣具有還原性，可用于去除金屬表面的細小氧化層，不易損壞。表面敏感的有機層。因此，廣泛應用于微電子、半導體、電路板等制造行業。氫氣是一種危險氣體，當與未電離狀態的氧氣結合時會爆炸。因此，通常禁止在等離子表面處理機中混合兩種氣體。

使用等離子清洗機后，下一道工序等離子清洗機是提高產品性能的重要加工工序之一，大大降低了產品在工藝過程中造成的不良率，提高了產品的質量。等離子清洗機對玻璃板的表面進行了親水處理，但處理后它是高度疏水的，沒有痕跡。氣體的化學性質可分為惰性氣體等離子體和活性氣體等離子體。 AR, Nitrogen (N2), Nitrogen Fluoride (NF3) 四氟化碳，活性氣體，惰性氣體如O2和H2。

等離子體顯示板是由幾百萬個像素單元構成的

（1）破壞生態環境，等離子體顯示板是由幾百萬個像素單元構成的危險廢物隨意排放，雨水和地下水的長期滲透和擴散，造成水體、土壤和下降區，污染環境功能水平。（2）影響人體健康。危險廢物導致誤食、吸入、皮膚中毒。危險性如吸收、眼睛接觸或灼燒或破裂。操作原因；長期中毒、致癌、致畸、致突變等因反復接觸而造成的長期損害。 (3) 鍵可以繼續打開。危險廢物未經處理或處置造成的空氣、水源、土壤等也是制約經濟活動的瓶頸。